等離子刻蝕和沉積系統(tǒng)制造商牛津儀器公司(Oxford Instruments)日前宣布，在北京和臺(tái)灣舉辦兩場為期一天的研討會(huì)，將聚焦于納米級(jí)等離子工藝。

 

這兩場研討會(huì)之前，牛津儀器曾在中國舉辦一系列研討會(huì)，吸引了逾兩百名參與者。

 

這兩場研討會(huì)預(yù)計(jì)將分別于今年五月十四日在中國北京舉行，五月十六日在臺(tái)灣新竹工業(yè)技術(shù)研究院(ITRI)舉行。

 

除了牛津儀器公司等離子技術(shù)的處理和應(yīng)用專家，該研討會(huì)還將包括中國大陸、臺(tái)灣和歐洲的多名演講嘉賓和專家的發(fā)言。

 

每個(gè)為期一天的計(jì)劃都將涉及一系列主題，包括原子層沉積(ALD)、光伏(PV)、深硅刻蝕、發(fā)電設(shè)備、高亮度發(fā)光二極管(HBLED)和離子束技術(shù)。

 

中國科學(xué)院北京半導(dǎo)體研究所楊福華表示：“兩年前我們?cè)c牛津儀器舉辦過此類研討會(huì)，獲得巨大成功，逾一百人參加。不同領(lǐng)域的發(fā)言人的演講內(nèi)容極佳，并且信息量相當(dāng)大。這兩場研討會(huì)是在非正式場合下發(fā)現(xiàn)新技術(shù)的絕佳方式，并且有大量時(shí)間與專家交流。”

 

開幕式發(fā)言人牛津儀器等離子技術(shù)亞洲區(qū)業(yè)務(wù)經(jīng)理Jeffrey Seah表示：“我們期待在中國大陸和臺(tái)灣的這兩場研討會(huì)有大量觀眾參與，并且非常榮幸如此多著名的發(fā)言人已接受我們的邀請(qǐng)，講述他們?cè)诘入x子工藝領(lǐng)域的工作。我們的研討會(huì)為等離子工藝領(lǐng)域提供一個(gè)重要的機(jī)遇，走到一起分享他們的經(jīng)驗(yàn)，并且更多了解各自領(lǐng)域領(lǐng)先的國際專家。”

 

根據(jù)此前在北京和上海研討會(huì)的成功，牛津儀器預(yù)計(jì)學(xué)術(shù)界和生產(chǎn)部門將熱情參與。

 

此次研討會(huì)免費(fèi)參加，但需在線預(yù)訂。