過去一年中，大型硅片格式的迅速崛起已經(jīng)證明，光伏系統(tǒng)某一領(lǐng)域的技術(shù)進(jìn)步，往往會(huì)對(duì)另一領(lǐng)域提出新的要求。 目前，抗反射涂層(ARCs)已在模塊生產(chǎn)中被廣泛應(yīng)用于前側(cè)玻璃面板，這一技術(shù)的使用，也對(duì)串聯(lián)電池和多結(jié)電池的概念提出了新的挑戰(zhàn)。串聯(lián)電池和多結(jié)電池可吸收的太陽(yáng)光譜范圍更大，其產(chǎn)生的反射范圍也更大，這意味著抗反射涂層 (ARCs)需要在更大范圍內(nèi)減少反射。 馬德里理工大學(xué)的科學(xué)家們通過研究抗反射涂層在III-V 多結(jié)電池概念中的作用，特別是某些小眾應(yīng)用領(lǐng)域，例如衛(wèi)星供電和空間探索等領(lǐng)域的應(yīng)用，致力于尋求這一問題的解決方案。他們的全部研究成果發(fā)表在《太陽(yáng)能》雜志上，題目是多結(jié)太陽(yáng)能電池寬波長(zhǎng)抗反射涂層的高低折射率疊層。

在論文中，該小組指出，目前最新的改進(jìn)抗反射涂層的方法，通常包括：（1）在涂層上添加額外的層；（2）使用復(fù)雜的納米結(jié)構(gòu)或等離子體來(lái)制作涂層——所有這類方法都會(huì)增加制造過程的復(fù)雜性和材料消耗量。

考慮到這一點(diǎn)，科學(xué)家們堅(jiān)持使用只有高低折射率這兩種材料交替組合而成的薄雙層來(lái)制作抗反射涂層。該團(tuán)隊(duì)還發(fā)明了一套算法，用于計(jì)算兩種不同類型的III-V太陽(yáng)能電池的最佳涂層設(shè)計(jì)，并證明高低折射率組合涂層可以顯著提高電池效率。

在對(duì)各種電池技術(shù)的模擬實(shí)驗(yàn)中，使用上述方法進(jìn)行涂層設(shè)計(jì)后，其效率提高了1 – 5%。相比現(xiàn)有的多結(jié)太陽(yáng)能電池抗反射涂層處理技術(shù)，該團(tuán)隊(duì)還指出了“高低折射率疊層”技術(shù)在大規(guī)模生產(chǎn)中的幾個(gè)潛在優(yōu)勢(shì)，該技術(shù)據(jù)說(shuō)已被其他行業(yè)用于玻璃涂層生產(chǎn)，經(jīng)適當(dāng)調(diào)整后即可用于當(dāng)前的光伏制造業(yè)。

高低折射率疊層抗反射涂層（HLIS ARC）的優(yōu)點(diǎn)在于其只需使用兩種材料，與具有梯度基層的多層抗反射涂層（例如：三層或四層抗反射涂層）相比，HLIS ARC減少了對(duì)新材料的需求”，科學(xué)家們總結(jié)道，“這種技術(shù)解決方案非常簡(jiǎn)單，且事實(shí)證明高低折射率疊層對(duì)基層厚度的微小變化似乎并不敏感，這也使它們更有希望進(jìn)入實(shí)際應(yīng)用領(lǐng)域。”