布局HIT的企業越來越多,產業化醞釀開啟。當前全球最大HIT量產線規模僅600MW,近兩年新建產線以100-200MW的中試線為主。相較于去年,布局HIT的企業越來越多,已經超過20家,宣布了GW擴產規劃的企業包括山煤國際、鈞石能源、東方日升、愛康科技、中利騰輝、比太科技等,國產大通量低成本PECVD的突破將成為HIT產業化的發令槍。
山煤HIT項目有望落地,GW級產線有望出現。2019年山煤國際公告擬建設10GW的HIT電池生產線,受疫情和集團合并影響,進度晚于預期,當前山西煤炭進出口集團(山煤國際控股股東)和山西焦煤集團合并已經完成,山煤HIT項目作為山西能源革命重點工程有望加快推進,GW級別的設備招標有望出現,對推動設備國產化和降本有重要牽引作用,銀漿、靶材等配套耗材的產業化降本也有望啟動。
HIT降本展望
降本思路:單瓦成本=單片成本/單片功率,一方面做低單片成本,另一方面做高效率。
做低單片成本:
設備降本:同時降低折舊成本和財務成本,一舉雙得;
材料降本:硅片薄片化,清洗制絨試劑、靶材、銀漿降本;
提高良率:HIT自動化難度較大,尤其是節拍做高和硅片做薄之后,良率需要盡可能控制在98%以上;
做高單片功率:24%——26%
鈍化膜和窗口層優化;
靶材和銀漿提質;
未來3年降本展望:
硅片成本:N型硅片的硅料價格和加工成本都比N型略高,同等厚度下N型硅片價格比P型高約7.2%,薄片化之后(150微米左右)N型和P型硅片價格基本打平,考慮到HIT約1個點的效率優勢后,HIT的硅料成本比PERC低約2分/瓦。HIT是低溫工藝,理論上硅片可以薄到100微米左右,但硅片、電池、組件制造工藝上有難度,預計兩年內N型硅片厚度在140-150微米,隨著制造工藝的進步,或許會往120微米去走。
銀漿成本:主要跟銀漿單耗和銀漿價格有關。HIT所用銀漿為低溫銀漿,當前價格比PERC高溫銀漿貴約20%,主要是量小,未來放量之后,低溫銀漿和高溫銀漿的價差預計可以控制在數百元以內。單耗方面,如果使用MBB印刷,210毫克/片,如果使用SWCT智能串焊技術,可以控制在100毫克以內。預計SWCT會成為主流技術。按當前銀漿價格計算,HIT的銀漿成本0.18元/瓦,如果使用SWCT,銀漿成本可以做到0.07-0.08元/瓦。
靶材成本:靶材在平板顯示行業應用已經十分成熟,HIT的靶材和平板靶材類似,當前價格約3000元/千克,消耗量約120毫克/片,沉積到腔體中的靶材可以回收,考慮回收之后靶材價格在2200元/千克。靶材成本可以控制在5分/瓦以內,潛力在3分/瓦。
降本路徑清晰,成本差逐漸縮小。按GW級產線和當前耗材價格計算,HIT電池的不含稅完全成本達到0.84元/瓦,當前PERC(非硅按0.23計算)完全成本0.67元/瓦,HIT比PERC高0.17元/瓦,隨著設備降本和產業鏈配套的成熟,成本差預計每年縮小4-5分/瓦,5年內縮小到4分/瓦,考慮到效率溢價、低溫度系數溢價、低衰減溢價,HIT的性價比超過PERC有比較大的可行性。
HIT有望成為未來主流技術路線。從技術路線來看,未來3年內,PERC、TOPCon、HIT大概率會共存,TOPCon延續存量PERC產能的生命,HIT開辟新的利潤點,沒有包袱的新進入者會直接擴HIT。3年后HIT大概率勝出,逐步淘汰其他。5年后,HIT+鈣鈦礦做Tandem疊層電池,目前鈣鈦礦主要是材料的問題,學術界和產業界攻關較多,解決的可能性較大,一旦解決HIT的高電壓疊加鈣鈦礦帶來的高電流將推動電池效率站上28%,最終潛力在35%左右。
山煤HIT項目有望落地,GW級產線有望出現。2019年山煤國際公告擬建設10GW的HIT電池生產線,受疫情和集團合并影響,進度晚于預期,當前山西煤炭進出口集團(山煤國際控股股東)和山西焦煤集團合并已經完成,山煤HIT項目作為山西能源革命重點工程有望加快推進,GW級別的設備招標有望出現,對推動設備國產化和降本有重要牽引作用,銀漿、靶材等配套耗材的產業化降本也有望啟動。
HIT降本展望
降本思路:單瓦成本=單片成本/單片功率,一方面做低單片成本,另一方面做高效率。
做低單片成本:
設備降本:同時降低折舊成本和財務成本,一舉雙得;
材料降本:硅片薄片化,清洗制絨試劑、靶材、銀漿降本;
提高良率:HIT自動化難度較大,尤其是節拍做高和硅片做薄之后,良率需要盡可能控制在98%以上;
做高單片功率:24%——26%
鈍化膜和窗口層優化;
靶材和銀漿提質;
未來3年降本展望:
硅片成本:N型硅片的硅料價格和加工成本都比N型略高,同等厚度下N型硅片價格比P型高約7.2%,薄片化之后(150微米左右)N型和P型硅片價格基本打平,考慮到HIT約1個點的效率優勢后,HIT的硅料成本比PERC低約2分/瓦。HIT是低溫工藝,理論上硅片可以薄到100微米左右,但硅片、電池、組件制造工藝上有難度,預計兩年內N型硅片厚度在140-150微米,隨著制造工藝的進步,或許會往120微米去走。
銀漿成本:主要跟銀漿單耗和銀漿價格有關。HIT所用銀漿為低溫銀漿,當前價格比PERC高溫銀漿貴約20%,主要是量小,未來放量之后,低溫銀漿和高溫銀漿的價差預計可以控制在數百元以內。單耗方面,如果使用MBB印刷,210毫克/片,如果使用SWCT智能串焊技術,可以控制在100毫克以內。預計SWCT會成為主流技術。按當前銀漿價格計算,HIT的銀漿成本0.18元/瓦,如果使用SWCT,銀漿成本可以做到0.07-0.08元/瓦。
靶材成本:靶材在平板顯示行業應用已經十分成熟,HIT的靶材和平板靶材類似,當前價格約3000元/千克,消耗量約120毫克/片,沉積到腔體中的靶材可以回收,考慮回收之后靶材價格在2200元/千克。靶材成本可以控制在5分/瓦以內,潛力在3分/瓦。
降本路徑清晰,成本差逐漸縮小。按GW級產線和當前耗材價格計算,HIT電池的不含稅完全成本達到0.84元/瓦,當前PERC(非硅按0.23計算)完全成本0.67元/瓦,HIT比PERC高0.17元/瓦,隨著設備降本和產業鏈配套的成熟,成本差預計每年縮小4-5分/瓦,5年內縮小到4分/瓦,考慮到效率溢價、低溫度系數溢價、低衰減溢價,HIT的性價比超過PERC有比較大的可行性。
HIT有望成為未來主流技術路線。從技術路線來看,未來3年內,PERC、TOPCon、HIT大概率會共存,TOPCon延續存量PERC產能的生命,HIT開辟新的利潤點,沒有包袱的新進入者會直接擴HIT。3年后HIT大概率勝出,逐步淘汰其他。5年后,HIT+鈣鈦礦做Tandem疊層電池,目前鈣鈦礦主要是材料的問題,學術界和產業界攻關較多,解決的可能性較大,一旦解決HIT的高電壓疊加鈣鈦礦帶來的高電流將推動電池效率站上28%,最終潛力在35%左右。