高純度貴金屬鋨靶Os 磁控濺射鍍膜鋨靶 鋨靶Osmium (Os)鋨PVD鍍膜材料
產(chǎn)品名稱： | 鋨靶，鋨粒，鋨粉，鋨絲 |
牌號規(guī)格： | Os 1 |
用途 ： | 主要用于電阻、繼電器、火花塞電極、電觸頭、熱電偶及印刷電路等 |
產(chǎn) 品 詳 情
貴金屬鋨及其合金在石油化學(xué)工業(yè)上主要作催化劑。
在電子電器工業(yè)上，作電阻、繼電器、火花塞電極、電觸頭、熱電偶及印刷電路等。
在玻璃工業(yè)上，金屬鋨不會使熔化的玻璃污染，可作為制造光學(xué)玻璃時的容器內(nèi)襯。
鋨銥合金可以作鐘表和儀器中的軸承，制造筆尖和唱針。
傳統(tǒng)上，鋨用來制作鋼筆尖，現(xiàn)在應(yīng)用于生產(chǎn)磁控濺射鍍膜靶材。
鋨濺射靶材Osmium (Os)
形狀 | 圓形、方形 |
尺寸 | Φ50~100mm |
厚度 | 3~15mm |
純度 | ≥3N5 |
注：其它尺寸可根據(jù)客戶要求制作。具體尺寸請聯(lián)系銷售。
鋨靶材（Osmium, Os）
一、高純貴金屬磁控濺射鍍膜鋨靶材（Osmium, Os），作為PVD（物理氣相沉積）鍍膜技術(shù)中的關(guān)鍵材料，以其卓越的物理特性和廣泛的應(yīng)用優(yōu)勢，在多個高科技領(lǐng)域中占據(jù)重要地位。
我司深耕靶材領(lǐng)域十年，專注研發(fā)與生產(chǎn)，鑄就行業(yè)精品。所生產(chǎn)單材質(zhì)靶材如下：
SINGLE ELEMENTS 單材質(zhì)靶材、電子束蒸發(fā)顆粒 | |
Aluminum (Al) | Nickel (Ni) |
Antimony (Sb) | Niobium (Nb) |
Arsenic (As) | Osmium (Os) |
Barium (Ba) | Palladium (Pd) |
Beryllium (Be) | Platinum (Pt) |
Boron (B) | Rhenium (Re) |
Cadmium (Cd) | Rhodium (Rh) |
Carbon (C) | Rubidium (Rb) |
Chromium (Cr) | Ruthenium (Ru) |
Cobalt (Co) | Selenium (Se) |
Copper (Cu) | Silicon (Si) |
Gallium (Ga) | Silver (Ag) |
Germanium (Ge) | Tantalum (Ta) |
Gold (Au) | Tellurium (Te) |
Hafnium (Hf) | Tin (Sn) |
Indium (In) | Titanium (Ti) |
Iridium (Ir) | Tungsten (W) |
Iron (Fe) | Vanadium (V) |
Lead (Pb) | Yttrium (Y) |
Magnesium (Mg) | Zinc (Zn) |
Manganese (Mn) | Zirconium (Zr) |
Molybdenum (Mo) | |
二、材料特性：
首先，從材料特性來看，高純鋨靶材的純度通常高達(dá)99.99%甚至更高，這意味著其幾乎不含有任何雜質(zhì)，確保了鍍膜過程的純凈性和最終產(chǎn)品的優(yōu)良性能。鋨的密度極高，達(dá)到22.59 g/cm3，這一特性使得鋨靶材在濺射過程中能夠穩(wěn)定地釋放原子，形成致密且均勻的薄膜。此外，鋨的熔點(diǎn)也非常高，達(dá)到3045℃，這使得鋨靶材能夠在高溫環(huán)境下保持穩(wěn)定的物理和化學(xué)性質(zhì)，為高溫鍍膜工藝提供了可靠保障。
三、市場應(yīng)用：
1、在PVD鍍膜技術(shù)中，高純鋨靶材的應(yīng)用優(yōu)勢尤為明顯。首先，其高純度特性確保了鍍膜過程中雜質(zhì)引入的減少，從而提高了薄膜的純凈度和性能穩(wěn)定性。這對于需要高精度和高可靠性的電子器件和光學(xué)元件來說至關(guān)重要。其次，鋨靶材的高密度和熔點(diǎn)使得其能夠形成致密且耐高溫的薄膜，這對于提高器件的耐熱性、耐腐蝕性和機(jī)械強(qiáng)度具有重要意義。
2、在行業(yè)應(yīng)用中，高純鋨靶材展現(xiàn)出了廣泛的適用性。在電子電器工業(yè)中，鋨靶材被用于制作電阻、繼電器、火花塞電極、電觸頭、熱電偶及印刷電路等關(guān)鍵部件，其優(yōu)異的導(dǎo)電性和穩(wěn)定性確保了電子設(shè)備的正常運(yùn)行。在石油化學(xué)工業(yè)中，鋨及其合金作為催化劑，能夠加速化學(xué)反應(yīng)速率，提高生產(chǎn)效率。此外，在玻璃工業(yè)中，鋨靶材還可作為制造光學(xué)玻璃時的容器內(nèi)襯，防止熔化的玻璃被污染。
3、更值得一提的是，隨著科技的不斷發(fā)展，高純鋨靶材在更多新興領(lǐng)域中也展現(xiàn)出了巨大的應(yīng)用潛力。例如，在航空航天領(lǐng)域，鋨靶材可用于制作高溫部件的防護(hù)涂層，提高部件的耐熱性和耐腐蝕性；在醫(yī)療領(lǐng)域，鋨靶材可用于制作生物兼容的涂層材料，為醫(yī)療植入物和外科工具提供保護(hù)。
綜上所述，高純貴金屬磁控濺射鍍膜鋨靶材以其卓越的物理特性和廣泛的應(yīng)用優(yōu)勢，在多個高科技領(lǐng)域中發(fā)揮著重要作用。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓展，鋨靶材的未來發(fā)展前景將更加廣闊。
